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日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡

產(chǎn)品時(shí)間：2025-05-15

訪問次數(shù)：2685

簡要描述：

日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡
與現(xiàn)有機(jī)型相比分辨率提高了20％左右
　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
　　采用污染小、高真空樣品倉
　　運(yùn)用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

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詳細(xì)介紹

日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000

日本日立HITACHI超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列的詳細(xì)介紹

　　沿用"SU8200系列"的冷場發(fā)射電子槍*2

　　采用電子束在Flashing后出現(xiàn)的高亮度穩(wěn)定區(qū)域作為穩(wěn)定觀察的區(qū)間，使得低加速電壓條件下兼?zhèn)涓叻直嬗^察和分析的佳性能

　　與現(xiàn)有機(jī)型相比分辨率提高了20％左右

　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)

　　采用污染小、高真空樣品倉

　　運(yùn)用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

　　極低著陸電壓下高分辨觀察日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。

新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）

用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。
采用設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。

日立科學(xué)儀器（）有限公司為您提供日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息，日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000產(chǎn)地為日本、品牌為日立，型號(hào)為SU9000，價(jià)格為面議，更多相關(guān)信息可，公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)

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日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡與現(xiàn)有機(jī)型相比分辨率提高了20％左右 (Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV) 采用污染小、高真空樣品倉 運(yùn)用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000

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